1976 · Hand-Verified Mask Layout · Werk 895 von 1.871
A small chip design office in California on a winter night, a large light table glowing from below, on it a milky white translucent sheet nearly one and a half metres wide, across it a faint web of pale grey-pink rectangles and narrow tracks, a dense fine grid field in its upper left corner, a ring of small square pads along all four edges, shiny pieces of clear tape at its corners, a man in a pale shirt seen from directly behind, face turned fully away, one hand holding a small clear plastic spacing gauge onto a single line, the other a pen magnifier, a paper cup of coffee, dark windows.
Wofür es benutzt wurde
Prüfzeichnung aus der Entwicklung des Zilog Z80. Das Computer History Museum führt das Objekt 102716352 als "Z80 Mask Design Rule Check Plot", 55 Zoll breit und 42 Zoll lang, 1 Pfund schwer, Geschenk von Bernard L. Peuto. Der Plot legte jede einzelne Maskenebene in 200-facher Endgröße übereinander, damit der Entwerfer nachsehen konnte, ob der Entwurf die Abstände einhielt, die das Fertigungsverfahren verlangte - liegen Bauelemente zu nah beieinander, funktionieren sie nicht. Masatoshi Shima prüfte mit einer einfachen Abstandslehre und brauchte mehrere Wochen für Größe und Abstand jedes der 8.500 Transistoren und aller Verbindungsleitungen.
Was daran neu war
Kennzeichnend ist nicht eine Neuerung, sondern ein Verfahren und seine Größe: die Entwurfsprüfung war körperliche Arbeit an einer Zeichnung von 139,7 mal 106,7 cm. Das Computer History Museum nennt die Arbeitsteilung: Shima entwarf Logik und Schaltungen des Z80, Federico Faggin - Mitgründer und Geschäftsführer von Zilog - erstellte den Maskenentwurf im Wesentlichen selbst, und das dauerte etwa 15 Wochen. In den 1980er Jahren ersetzten nach derselben Quelle automatische Entwurfswerkzeuge diese Handarbeit.
Was die Quellen offenlassen: Nur eine Quelle, und sie datiert den Plot selbst nicht; die Seite nennt lediglich, dass der Z80 1976 bei Zilog entworfen wurde. Wie oft geprüft wurde und wie viele solcher Plots entstanden, sagt der Eintrag nicht.
Zusammenhänge
Jeder Verweis nennt seine Art. „Vorläufer“ allein wäre eine Behauptung.
Folgt ausThe 80801974Der Z80 war nach dem Computer History Museum ein verbesserter, mit dem 8080 kompatibler Prozessor. "It had to be compatible with 8080", sagt Masatoshi Shima, der danach bei Zilog den Z80 entwickelte, und nennt ihn "the improved product over the 8080". Auf diesem Prüfplot verglich Shima Größe und Abstände aller 8.500 Transistoren von Hand; das Maskenlayout stammte größtenteils von Federico Faggin.Beleg: IEEE ETHW, Oral History: Masatoshi Shima · Computer History Museum: Z80 Mask Design Rule Check Plot (102716352)