1960 · Integrated Circuit Mask Layout · Werk 842 von 1.871
A large drawing on a tilted drawing table in an engineering office in Mountain View, a wide sheet of pale paper ruled in a fine green grid, in its middle a symmetrical figure forty centimetres across of rectangles and bars shaded in blue-grey hatching and outlined in red dashed lines, three identical groups of small diamond shapes inside it, eight small empty squares around its edge, the margins of the sheet bare paper, a hand in a white shirt sleeve drawing a red dashed line with a coloured pencil along a plain wooden straightedge, blue and red pencils beside it, an angled desk lamp, cool fluorescent light from above.
Wofür es benutzt wurde
Vor der Maske stand die Zeichnung. Für Fairchilds erste planare integrierte Schaltung, das Flipflop-Element "F" mit 4 Transistoren und 5 Widerständen, zeichnete Lionel Kattner den Maskenentwurf von Hand; das Original liegt im Computer History Museum unter der Nummer 102658656. Die Zeichnung legte für jede Fertigungsstufe eine eigene Maskenlage fest. Anschließend wurde das Muster photographisch auf Maskengröße verkleinert. Robert Noyce hatte Jay Last im August 1959 mit der Entwicklung beauftragt; die ersten funktionierenden Bauteile entstanden am 26. Mai 1960, die Vorstellung als Micrologic folgte im März 1961.
Was daran neu war
Kennzeichnend ist der Maßstabssprung: gezeichnet wurde groß, gebaut wurde klein, und dazwischen lag die photographische Verkleinerung. Das machte den Entwurf zu einem Gegenstand, den man von Hand prüfen konnte - frühe Schaltungen entwarfen nach Darstellung des Computer History Museum 1 oder 2 Ingenieure mit dem Rechenschieber, während spätere Bausteine mit Millionen Transistoren Entwurfsprogramme und ganze Gruppen brauchten. Der Preis blieb zunächst Handarbeit: beim späteren Verfahren schnitten Operateure das Muster an Leuchttischen in zweischichtige Rubylith-Folie; bei Intel war das Digitalisieren der Zeichnungen Anfang der 1970er Jahre erst der Schritt zum rechnergestützten Entwurf, der das Zuschneiden später überflüssig machte.
Was die Quellen offenlassen: Kattner als Zeichner und die Objektnummern aus dem Ausstellungstext "Semiconductor Artifacts" des Computer History Museum; dieser Text widerspricht sich darin, ob das gezeigte Stück das Original oder eine Kopie ist. Das Zeichenmaterial von 1960 nennt er nicht; Rubylith ist dort nur für eine spätere Maske (Mostek, 200fach) belegt. Der Rubylith-Ablauf stammt vom Intel-Museum und beschreibt Intels Praxis, nicht die von 1960.